GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設(shè)備

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簡要描述：GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進式壓印拼接成大面積壓印母模具。

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GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進式壓印拼接成大面積壓印母模具。

GL SR300是一種步進式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進式壓印拼接成大面積壓印母模具。

通常納米壓印模具的加工需要利用的電子束或者激光直寫技術(shù)、刻蝕技術(shù)等，加工大面積納米壓印母模具成本極其高昂，技術(shù)可行性很低。通過GL SR300步進式納米壓印技術(shù)可以將小面積納米壓印模具拼接成大面積納米壓印母模具，然后從大面積母模具可以復(fù)制大面積工作模具，用來進行大幅面壓印。這種方式可以大大降低納米壓印模具成本，使得低成本納米壓印生產(chǎn)成為可能。

主要功能

●300mm步進式紫外納米壓印
●支持從微透鏡復(fù)制到整面微透鏡陣列模具，用做晶圓級光學(xué)加工母模具
●支持從小面積高精度納米結(jié)構(gòu)模具復(fù)制到大幅面模具，用作CLIV全副面壓印母模具
●支持各種模具材質(zhì)與形狀
●支持旋涂壓印膠基底步進式壓印復(fù)制，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)模具拼接
●設(shè)備自帶點膠裝置，支持點膠步進式壓印復(fù)制，適用于微透鏡陣列等晶圓級光學(xué)結(jié)構(gòu)模具拼接
●標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>200mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
●標配設(shè)備內(nèi)部潔凈環(huán)境與除靜電裝置
●高精度閉環(huán)控制位移平臺，定位精度優(yōu)于1μm

設(shè)備照片